影響工業鋁型材微弧氧化處理的主要因素

 （1）工業鋁型材及表面狀態的影響。微弧氧化技術對工業鋁型材的合金成分要求不高，對一些普通陽極氧化難以處理的工業鋁型材產品，如含銅、高硅鑄鋁合金的均可進行微弧氧化處理。對工業鋁型材表面狀態也要求不高，一般不需進行表面拋光處理。對于粗糙度較高的工業鋁型材，經微弧氧化處理后表面得到修復變得更均勻平整；而對于粗糙度較低的工件，經微弧氧化后，表面粗糙度有所提高。
 （2）電解質溶液及其組分的影響。微弧氧化電解液是獲取合格膜層的技術關鍵。不同的電解液成分及氧化工藝參數，所得膜層的性質也不同。微弧氧化電解液多采用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液（如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等），其在溶液中的存在形式最好是膠體狀態。溶液的pH范圍一般在9-13之間。根據膜層性質的需要，可添加一些有機或無機鹽類作為輔助添加劑。在相同的微弧電解電壓下，電解質濃度越大，成膜速度就越快，溶液溫度上升越慢，反之，成膜速度較慢，溶液溫度上升較快。

                                               

  （3）氧化電壓及電流密度的影響。微弧氧化電壓和電流密度的控制對獲取合格膜層同樣至關重要。不同的工業鋁型材和不同的氧化電解液，具有不同的微弧電擊穿電壓（擊穿電壓：工業鋁型材表面剛剛產生微弧放電的電解電壓），微弧氧化電壓一般控制在大于擊穿電壓幾十至上百伏的條件進行。氧化電壓不同，所形成的陶瓷膜性能、表面狀態和膜厚不同，根據對膜層性能的要求和不同的工藝條件，微弧氧化電壓可在200-600V范圍內變化。微弧氧化可采用控制電壓法或控制電流法進行，控制電壓進行微弧氧化時，電壓值一般分段控制，即先在一定的陽極電壓下使鋁表面形成一定厚度的絕緣氧化膜層，然后增加電壓至一定值進行微弧氧化。當微弧氧化電壓剛剛達到控制值時，通過的氧化電流一般較大，可達10A/dm2左右，隨著氧化時間的延長，陶瓷氧化膜不斷形成與完善，氧化電泳逐漸減少，最后小于1A/dm2。氧化電壓的波形對膜層性能有一定影響，可采用直流，鋸齒或方波等電壓波形。采用控制電流法較控制電壓法工藝操作上更為方便，控制電流法的電流密度一般為2-8A/dm2.控制電流氧化時，氧化電壓開始上升較快，達到微弧放電時，電壓上升緩慢，隨著膜的形成，氧化電壓又較快上升，最后維持在一較高的電解電壓下。
  （4）溫度與攪拌的影響。與常規的鋁陽極氧化不同，微弧氧化電解液的溫度允許范圍較寬，可在10-90℃條件下進行。溫度越高，工業鋁型材與溶液界面的水汽化越厲害，膜的形成速度越快，但其粗糙度也隨之增加。同時溫度越高，電解液蒸發也越快，所以微弧氧化電解液的溫度一般控制在20-60℃范圍。由于微弧氧化的大部分能量以熱能的形式釋放，其氧化液的溫度上升速度比常規鋁陽極氧化快，故微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統以控制槽液溫度。雖然微弧氧化過程工件表面有大量氣體析出，對電解液有一定的攪拌作用，但為保證氧化溫度和體系組分的均一，一般都配備機械裝置或壓縮空氣對電解液進行攪拌。
  （5）微弧氧化時間的影響。微弧氧化時間一般控制在10-60min。氧化時間越長，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。
  （6）陰極材料。微弧氧化的陰極材料采用不溶性金屬材料。由于微弧氧化電解液多為堿性液，故陰極材料可采用碳鋼、不銹鋼或鎳。其方式可采用懸掛或上述材料制作的電解槽作為陰極。
  （7）膜層的后處理。工業鋁型材經微弧氧化后可不經后處理直接使用，也可對氧化后的膜層進行封閉，電泳涂漆，機械拋光等后處理，以進一步提高膜的性能。